简单的

性能

设计

可靠的

Simple design Reliable performance

6 个产品
  • 氢气纯化设备

    产品简介:
    处理气量:(1-10000)Nm3/h
    压力:≤5.0Mpa
    氢气纯度:≥99.9999% 
    露点:≤-76℃
    纯氢含氧量:≤0.2ppm
    广泛应用于:
    石油化工、电子工业、半导体、冶金工业、食品加工、浮法玻璃等需要高纯氢气的有关科研和生产部门。


    805 ¥ 0.00
  • 氧气纯化设备

    产品简介:
    处理气量:(1-10000)Nm3/h
    压力:≤5.0Mpa
    氧气纯度:≥99.999% 
    露点:≤-72℃
    纯氧含氢量:≤0.5ppm
    广泛应用于:
    电子工业、半导体、光纤等需要高纯氧气的有关科研和生产部门。

    416 ¥ 0.00
  • 氮气纯化设备

    处理气量:(1-10000)Nm3/h
    压力:≤5.0Mpa
    氮气纯度:≥99.999% 
    露点:≤-70℃
    纯氮含氧量:≤3ppm
    广泛应用于:
    电子、冶金、化工、热处理、化纤、食品等需要高纯氮气的有关科研和生产部门。

    469 ¥ 0.00
  • 氩气纯化设备

    处理气量:(1-200)Nm3/h
    压力:≤1.0Mpa
    氩气纯度:≥99.999% 
    露点:≤-70℃
    含氧量:≤1.5ppm
    含氢量:≤0.5ppm
    含氮量:≤4ppm
    ΣCH≤1ppm
    广泛应用于:
    熔硅单晶炉配套使用,激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。

    401 ¥ 0.00
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