氢气纯化设备

产品简介：
处理气量：（1-10000）Nm3/h
压力：≤5.0Mpa
氢气纯度：≥99.9999％
露点：≤-76℃
纯氢含氧量：≤0.2ppm
广泛应用于：
石油化工、电子工业、半导体、冶金工业、食品加工、浮法玻璃等需要高纯氢气的有关科研和生产部门。

氧气纯化设备

产品简介：
处理气量：（1-10000）Nm3/h
压力：≤5.0Mpa
氧气纯度：≥99.999％
露点：≤-72℃
纯氧含氢量：≤0.5ppm
广泛应用于：
电子工业、半导体、光纤等需要高纯氧气的有关科研和生产部门。

氮气纯化设备

处理气量：（1-10000）Nm3/h
压力：≤5.0Mpa
氮气纯度：≥99.999％
露点：≤-70℃
纯氮含氧量：≤3ppm
广泛应用于：
电子、冶金、化工、热处理、化纤、食品等需要高纯氮气的有关科研和生产部门。

氩气纯化设备

处理气量：（1-200）Nm3/h
压力：≤1.0Mpa
氩气纯度：≥99.999％
露点：≤-70℃
含氧量：≤1.5ppm
含氢量：≤0.5ppm
含氮量：≤4ppm
ΣCH≤1ppm
广泛应用于：
熔硅单晶炉配套使用，激光器、溅射、半导体生产，气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。

氦气纯化设备

产品简介：
处理气量：（1-100）Nm3/h
压力：≤5.0Mpa
氦气气纯度：≥99.9998％
露点：≤-78℃
氧含量：≤0.5ppm
氮含量：≤1ppm
氢含量：≤0.1ppm
广泛应用于：
光纤、氦检等需要用高纯氦气的有关科研和生产部门。