产品简介:处理气量:(1-10000)Nm3/h压力:≤5.0Mpa氢气纯度:≥99.9999% 露点:≤-76℃纯氢含氧量:≤0.2ppm广泛应用于:石油化工、电子工业、半导体、冶金工业、食品加工、浮法玻璃等需要高纯氢气的有关科研和生产部门。
产品简介:处理气量:(1-10000)Nm3/h压力:≤5.0Mpa氧气纯度:≥99.999% 露点:≤-72℃纯氧含氢量:≤0.5ppm广泛应用于:电子工业、半导体、光纤等需要高纯氧气的有关科研和生产部门。
处理气量:(1-10000)Nm3/h压力:≤5.0Mpa氮气纯度:≥99.999% 露点:≤-70℃纯氮含氧量:≤3ppm广泛应用于:电子、冶金、化工、热处理、化纤、食品等需要高纯氮气的有关科研和生产部门。
处理气量:(1-200)Nm3/h压力:≤1.0Mpa氩气纯度:≥99.999% 露点:≤-70℃含氧量:≤1.5ppm含氢量:≤0.5ppm含氮量:≤4ppmΣCH≤1ppm广泛应用于:熔硅单晶炉配套使用,激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。
产品简介:处理气量:(1-100)Nm3/h压力:≤1.0Mpa氦气气纯度:≥99.999% 露点:≤-78℃氧含量:≤0.5ppm氮含量:≤1ppm氢含量:≤0.1ppm广泛应用于:光纤、氦检等需要用高纯氦气的有关科研和生产部门。