产品简介：处理气量：（1-10000）Nm3/h压力：≤5.0Mpa氢气纯度：≥99.9999％ 露点：≤-76℃纯氢含氧量：≤0.2ppm广泛应用于：石油化工、电子工业、半导体、冶金工业、食品加工、浮法玻璃等需要高纯氢气的有关科研和生产部门。
产品简介：处理气量：（1-10000）Nm3/h压力：≤5.0Mpa氧气纯度：≥99.999％ 露点：≤-72℃纯氧含氢量：≤0.5ppm广泛应用于：电子工业、半导体、光纤等需要高纯氧气的有关科研和生产部门。
处理气量：（1-10000）Nm3/h压力：≤5.0Mpa氮气纯度：≥99.999％ 露点：≤-70℃纯氮含氧量：≤3ppm广泛应用于：电子、冶金、化工、热处理、化纤、食品等需要高纯氮气的有关科研和生产部门。
处理气量：（1-200）Nm3/h压力：≤1.0Mpa氩气纯度：≥99.999％ 露点：≤-70℃含氧量：≤1.5ppm含氢量：≤0.5ppm含氮量：≤4ppmΣCH≤1ppm广泛应用于：熔硅单晶炉配套使用，激光器、溅射、半导体生产，气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。
产品简介：处理气量：（1-100）Nm3/h压力：≤1.0Mpa氦气气纯度：≥99.999％ 露点：≤-78℃氧含量：≤0.5ppm氮含量：≤1ppm氢含量：≤0.1ppm广泛应用于：光纤、氦检等需要用高纯氦气的有关科研和生产部门。
