• 氢气纯化设备

    产品简介:
    处理气量:(1-10000)Nm3/h
    压力:≤5.0Mpa
    氢气纯度:≥99.9999%
    露点:≤-76℃
    纯氢含氧量:≤0.2ppm
    广泛应用于:
    石油化工、电子工业、半导体、冶金工业、食品加工、浮法玻璃等需要高纯氢气的有关科研和生产部门。


    182 ¥ 0.00
  • 氧气纯化设备

    产品简介:
    处理气量:(1-10000)Nm3/h
    压力:≤5.0Mpa
    氧气纯度:≥99.999%
    露点:≤-72℃
    纯氧含氢量:≤0.5ppm
    广泛应用于:
    电子工业、半导体、光纤等需要高纯氧气的有关科研和生产部门。

    144 ¥ 0.00
  • 氮气纯化设备

    处理气量:(1-10000)Nm3/h
    压力:≤5.0Mpa
    氮气纯度:≥99.999%
    露点:≤-70℃
    纯氮含氧量:≤3ppm
    广泛应用于:
    电子、冶金、化工、热处理、化纤、食品等需要高纯氮气的有关科研和生产部门。

    136 ¥ 0.00
  • 氩气纯化设备

    处理气量:(1-200)Nm3/h
    压力:≤1.0Mpa
    氩气纯度:≥99.999%
    露点:≤-70℃
    含氧量:≤1.5ppm
    含氢量:≤0.5ppm
    含氮量:≤4ppm
    ΣCH≤1ppm
    广泛应用于:
    熔硅单晶炉配套使用,激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。

    131 ¥ 0.00
  • 氦气纯化设备

    产品简介:
    处理气量:(1-100)Nm3/h
    压力:≤1.0Mpa
    氦气气纯度:≥99.999%
    露点:≤-78℃
    氧含量:≤0.5ppm
    氮含量:≤1ppm
    氢含量:≤0.1ppm
    广泛应用于:
    光纤、氦检等需要用高纯氦气的有关科研和生产部门。

    128 ¥ 0.00
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